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當(dāng)前位置:上海思峻機械設(shè)備有限公司>>產(chǎn)品展示>>研磨分散機
聚酰亞胺分散機廠家,,聚酰亞胺納米分散機是高剪切均質(zhì)分散機是高效、快速,、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中...
管線式鈦酸鋰高速研磨分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是Z重要的,。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,,思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRX2000超高...
二氧化硅分散液研磨分散機轉(zhuǎn)速Z高可達14000rpm,,采用德國進口膠體磨與高速分散機相結(jié)合的形式,納米氧化硅水分散液相比較于比納米氧化硅粉體,,具有更加細小的粒徑...
聚酰亞胺薄膜研磨分散機,,上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。攪拌與研磨一體,,研磨效果好,,能減少物料使用量,能降低生產(chǎn)成本,。研磨分散機為...
環(huán)保型Al(H2PO2)3阻燃劑分散機,,SGN技術(shù)工程師與多家企業(yè)合作后,推薦GMSD2000系列超高速分散機進行Al(H2PO2)3的研磨及分散,,一般可至粒徑...
氫燃料電池漿料研磨分散機,,混合分散工藝在燃料電池的整個生產(chǎn)工藝中對產(chǎn)品的品質(zhì)影響度大于30%,是整個生產(chǎn)工藝中重要的環(huán)節(jié),。燃料電池的電極制造,,正極漿料由粘合劑、...
光催化劑超高速分散機,,光催化材料應(yīng)用中,,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,,需要對光催化劑體系進行研磨分散,,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化...
TiO2石墨烯復(fù)合材料研磨分散機,,TiO2/石墨烯復(fù)合材料目前一般先有膨脹石墨制備石墨烯,,然后再加入鈦源試劑,進過研磨分散設(shè)備分散而制成,。推薦GMSD2000系...
光觸媒涂料研磨分散機,,光觸媒涂料應(yīng)用中,一般需要將二氧化鈦光觸媒分散到涂料基料中,,形成懸浮液,,需要對光觸媒環(huán)保涂料體系進行研磨分散,結(jié)合多家客戶案例,,推薦GMS...
氧化鈷漿料研磨分散機,,氧化鈷粉體粒徑一般為10微米左右,需要加入液體介質(zhì)中分散應(yīng)用,,氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用GMSD2000系列研磨分散機進行研磨分散,,解決...
硅酸鹽碳納米管高速剪切分散機,碳納米管分散,其實也就是所謂的納米級物料的分散,,在做納米粉體分散或研磨時,,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸...
環(huán)保型阻燃聚丙烯復(fù)合材料研磨分散機,,采用接枝聚烯烴基蒙脫土母料,、玻璃纖維和無鹵膨脹型阻燃劑,與聚丙烯材料按比例混合,,可添加其他加工助劑,,在上海思峻10000-2...
紡織顏料漿料研磨分散機,根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理,,還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎,超細物料的均勻分散,,以及加速大分子物質(zhì)的溶解,。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨也...
納米無機材料多層超高速分散機,傳統(tǒng)的高速分散機(轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn))也即是高速攪拌機,,是將攪拌機插入罐中對物料進行高速攪拌,,由于這只是一個局部的攪拌,剪切中作用力弱...
化工鐵粉高剪切研磨分散機,SGN研磨分散機設(shè)計*,,能夠延長易損件的使用時間,,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣...
納米銀填充導(dǎo)電漿料研磨分散機,,目前較為合適的為高速剪切的方式,,主要優(yōu)勢為漿料適用性高、產(chǎn)量高,、效率高,。特別推薦SGN機械GMSD2000系列研磨分散機,轉(zhuǎn)速高達...
微生物有機肥料高速剪切分散機,,SGN高速剪切分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散分散的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散分散...
膨脹石墨石蠟復(fù)合材料分散機是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進行改進,,添加了分散機的分散盤,,使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散,由于在整個過...
微細二氧化硅氣凝膠由稀釋的水玻璃和硫酸進行中和反應(yīng),,形成水凝膠,,經(jīng)老化,水洗,,添加助劑均質(zhì)化,,噴霧千燥,,氣流粉碎制得。用作涂料的增稠劑,、消光劑塑料薄膜防勒劑(開...
藥物晶種濕法研磨分散機,,目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM,,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達到要求的...
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